赛默飞thermo戴安淋洗液发生装置074535

赛默飞thermo戴安淋洗液发生装置

简要描述:

赛默飞thermo戴安淋洗液发生装置 074535
戴安MSA 074535 淋洗液发生器用来电解产生高纯度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液发生器能避免基线漂移,增加灵敏度,提高分离度,保证色谱峰积分良好重复性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液发生罐产品,包括氢氧根体系淋洗液发生罐,碳酸根体系淋洗液发生罐和甲磺酸体系淋洗液发生罐

赛默飞thermo戴安淋洗液发生装置 074535

 

戴安MSA 074535 淋洗液发生器用来电解产生高纯度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液发生器能避免基线漂移,增加灵敏度,提高分离度,保证色谱峰积分良好重复性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液发生罐产品,包括氢氧根体系淋洗液发生罐,碳酸根体系淋洗液发生罐和甲磺酸体系淋洗液发生罐
该高容量抑制器几乎支持所有分析型 的 IC 应用,可用于阴离子和阳离子分析,提供 2mm 和 4mm 两种规格。 Dionex ERS 500 抑制器在标准孔 (4 mm) 和微孔 (2 mm) 规格下适用于碳酸盐(仅等度)、氢氧化物、甲基磺酸或硫酸淋洗液的等度或梯度应用。

Dionex CERS 500 Cation Electrolytically Regenerated Suppressor (4mm)

由于其具有较高的反压耐受性(在高达 900 psi 的情况下无泄漏,在高达 200 psi 时进行操作),提高了联用检测技术的兼容性,

特别是质谱仪 

较高的温度耐受性(在运输和储存中高达 80°C,操作时为 40°C) 

凭借其平面的填充床抑制槽,无电流操作后,无需试剂完全电解再生即可轻松恢复 

低峰扩散保持 4μm 色谱柱的峰形效率

在无需化学再生的情况下重新启动之后,其高抑制容量可立即产生稳定的峰面积值 

低噪音特性使抑制器适用于痕量分析 

为更可靠定量提高灵敏度 

与 Thermo Scientific Dionex CRD 300 碳酸盐去除装置配合使用时,Dionex ERS 500 抑制器在碳酸盐淋洗液条件下,能够降低背景电导和噪音、增强分析物响应和检测灵敏度,从而提高定量的可靠性。 

对实现 Reagent-Free IC (RFIC) 操作十分重要 

无需试剂的完全再生 

Dionex ERS 500 抑制器可直接替代 Thermo Scientific Dionex SRS 300自再生抑制器

赛默飞thermo戴安淋洗液发生装置 074535

 型号:

074532 Potassium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III KOH) 
074532 Sodium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III NaOH)  
074534 Lithium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III LiOH)  
074536 Carbonate Eluent Generator Cartridge (EGC III K2CO3)  
080135 Electroytic pH Modifier (EPM III)  
074535 Methanesulfonic Acid Eluent Generator Cartridge (EGC III MSA)  
072076 EGC-KOH (Capillary) Cartridge 
072077 EGC-MSA (Capillary) Cartridge